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Optimized Vertical Power DMOSFETS in Silicon Carbide
總結
Researchers at Purdue University have developed a structure and method of fabrication of a vertical DMOSFET in silicon carbide that achieves minimum on-state resistance and maximum breakdown voltage.
技術優勢
Increases breakdown voltage without increasing internal resistivityProvides consistent internal resistance at a greater operating temperature range
技術應用
MaterialsManufacturing
詳細技術說明
James Cooper Jr.Purdue Electrical and Computer Engineering
國家
United States
申請號碼
7,498,633
國家/地區
美國

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