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Selective removal of desired material without damaging sensitive device layers Facilitates the formation of nitride microcavity structures for optoelectronic devices [更多]
Main Advantages of this InventionΓÇóHigh through-put assay measuring individual cells instead of population averageΓÇóReagent and label freeΓÇóMore accurate than current methods [更多]
Tags: none
Improved electrical properties of the resulting TFTDoes not require fabrication of a mask structure over the amorphous siliconProvides control over both the length and directionality of crystal growth [更多]
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